设备
ITFSI拥有广泛的资源来生产高质量的研究成果。 这些为研究所提供了表征，建模，传感器和成像方面的能力。 该研究所拥有广泛的沉积和计量设备，从高通量溅射系统到扫描电子显微镜。 目前正在升级新的 洁净室设施，以进行更高质量的薄膜检测。
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薄膜沉积系统
CVC AST304射频磁控溅射系统有两个可用的目标，并配有一个低压泵，可达到高真空。
Satis 370是一种定制电子束沉积系统，最近更新为共沉积，并配备了ITFSI设计的等离子体源，用于等离子体增强电子束沉积。
微波等离子体辅助脉冲DC溅射系统能够生产高 质量的光学薄膜。 欲了解更多信息，请点击此处。
分子束外延系统（位于格拉斯哥苏格兰科学园区西气体传感解决方案有限公司）。 与Gas Sensing Solutions Ltd，Glasgow，Strathclyde，Stanford USA和West of Scotland大学共用设施。
PECVD系统用于生产高质量的类金刚石碳（DLC）涂层。 ITFSI的这个系统配备了空心阴极。
PlasmaCoat RF溅射系统是一种小批量，高通量的沉积系统。 在ITFSI，有两种PlasmaCoat溅射系统。 欲了解更多信息，请点击这里。
ITFSI的分析技术
Aquila nkd 8000光谱仪可以同时测量可见光/近红外范围内的透射和反射数据。
Thermo Fisher Scientific DXR拉曼显微镜能够测量拉曼散射以及SERS应用。 欲了解更多信息，请点击此处。
Thermo Fisher Scientific Nicolet iS50 FTIR具有测量红外传输和反射的附件。 可以用氮气冲洗室以除去二氧化碳的影响。
日立S4100电子显微镜配备了新的Oxford Instruments EDS探测器。 欲了解更多信息，请点击这里。
西门子D5000 X射线衍射仪配有铜X射线源，可以进行各种不同的测量设置。 特别用于鉴定样品中的晶相。
ITFSI具有椭圆测量功能，可用于样品光学分析。
MPAS Sputtering System
MPAS is microwave plasma assisted sputter deposition. Equipment designed and built by ITFSI with support from InnovateUK. Provides a novel patented deposition technology based on use of microwave plasma to assist sputter deposited high precision optical coatings.
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